Influence of Annealing Environment on the Ni Diffusion Rate to Surface of the Thin-Film Au/Ni System / Sydorenko, S. I., Voloshko, S. M., Mishchuk, O. O., Tynkova, A. A. (2012)
Ukrainian

web address of the page http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000470869
  Metallophysics and advanced technologies     А - 2019  /     Issue (2012, Т. 34, № 1)

Сидоренко С. І., Волошко С. М., Міщук О. О., Тинькова А. А.
Вплив середовища відпалу на швидкість дифузії ніклю до поверхні тонкоплівкової системи Au/Ni

Бібліографічний опис:
Сидоренко С. І., Волошко С. М., Міщук О. О., Тинькова А. А. Вплив середовища відпалу на швидкість дифузії ніклю до поверхні тонкоплівкової системи Au/Ni. Металлофизика и новейшие технологии. 2012. Т. 34, № 1. С. 65-76. URL: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000470869

English  Metallophysics and advanced technologies   /     Issue (2012, 34 (1))

Sydorenko S. I., Voloshko S. M., Mishchuk O. O., Tynkova A. A.
Influence of Annealing Environment on the Ni Diffusion Rate to Surface of the Thin-Film Au/Ni System

Cite:
Sydorenko, S. I., Voloshko, S. M., Mishchuk, O. O., Tynkova, A. A. (2012). Influence of Annealing Environment on the Ni Diffusion Rate to Surface of the Thin-Film Au/Ni System. Metallophysics and advanced technologies, 34 (1), 65-76. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000470869 [In Ukrainian].

 

Institute of Information Technologies of VNLU

+38 (044) 525-36-24
libnas@nbuv.gov.ua
Ukraine, 03039, Kyiv, Holosiivskyi Ave, 3, room 209