Высокочастотные разряды низкого давления в технологии малоэнергоемкого вакуумно-плазменного травления микроструктур / Фареник В. И. (2004)
Ukrainian

інтернет-адреса сторінки: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000849744
  Фізична інженерія поверхні   /     Випуск (2004, Т. 2, № 1-2)

Фареник В. И.
Высокочастотные разряды низкого давления в технологии малоэнергоемкого вакуумно-плазменного травления микроструктур

Бібліографічний опис:
Фареник В. И.  Высокочастотные разряды низкого давления в технологии малоэнергоемкого вакуумно-плазменного травления микроструктур. Фізична інженерія поверхні. 2004. Т. 2, № 1-2. С. 117-145. URL: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000849744

English  Physical surface engineering   /     Issue (2004, 2 (1-2))

Farenik V. I.
High-frequency discharges of low pressure in vacuum-plasma technology of low power-consuming for microstructure etching

Cite:
Farenik, V. I. (2004). High-frequency discharges of low pressure in vacuum-plasma technology of low power-consuming for microstructure etching. Physical surface engineering, 2 (1-2), 117-145. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000849744 [In Russian].

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ

+38 (044) 525-36-24
libnas@nbuv.gov.ua
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна