Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности / Рафальський Д. В., Дудин С. В., Положий К. И. (2008)
Ukrainian

інтернет-адреса сторінки: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000872886
  Фізична інженерія поверхні   /     Випуск (2008, Т. 6, № 3-4)

Рафальський Д. В., Дудин С. В., Положий К. И.
Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности

Бібліографічний опис:
Рафальський Д. В., Дудин С. В., Положий К. И. Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности. Фізична інженерія поверхні. 2008. Т. 6, № 3-4. С. 155-159. URL: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000872886

English  Physical surface engineering   /     Issue (2008, 6 (3-4))

Rafalskij D. V., Dudin S. V., Polozhij K. I.
Impedance disturbance of the inductive coil interacting with low density plasma

Cite:
Rafalskij, D. V., Dudin, S. V., Polozhij, K. I. (2008). Impedance disturbance of the inductive coil interacting with low density plasma. Physical surface engineering, 6 (3-4), 155-159. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000872886 [In Russian].

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ

+38 (044) 525-36-24
libnas@nbuv.gov.ua
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна