Formation of nanocrystalline silicon in tin-doped amorphous silicon films / Rudenko R. M., Voitsihovska O. O., Voitovych V. V., Kras'ko M. M., Kolosyuk A. G., Povarchuk V. Yu., Rudenko M. P., Knorozok L. M. (2020)
інтернет-адреса сторінки: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001127991
Ukrainian journal of physics   А - 2018 /  Випуск (2020, Vol. 65, № 3)
Rudenko R. M., Voitsihovska O. O., Voitovych V. V., Kras'ko M. M., Kolosyuk A. G., Povarchuk V. Yu., Rudenko M. P., Knorozok L. M.
Formation of nanocrystalline silicon in tin-doped amorphous silicon films
Cite:
Rudenko, R. M., Voitsihovska, O. O., Voitovych, V. V., Krasko, M. M., Kolosyuk, A. G., Povarchuk, V. Yu., Rudenko, M. P., Knorozok, L. M. (2020). Formation of nanocrystalline silicon in tin-doped amorphous silicon films. Ukrainian journal of physics, 65 (3), 236-246. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001127991 | |
|
|
PDF