Influence of conditions of deposition and annealing on a nanohardness of amorphous Si–C–N films / Porada, O. K. (2015)
Ukrainian

web address of the page http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000454323
   Nanosystems, nanomaterials, nanotechnologies     А - 2020  /     Issue (2015, Т. 13, Вип. 1)

Порада О. К.
Вплив умов осадження і відпалу на нанотвердість аморфних Si–C–N-плівок

Бібліографічний опис:
Порада О. К.  Вплив умов осадження і відпалу на нанотвердість аморфних Si–C–N-плівок. Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології. 2015. Т. 13, Вип. 1. С. 59-74. URL: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000454323

English   Nanosystems, nanomaterials, nanotechnologies   /     Issue (2015, 13 (1))

Porada O. K.
Influence of conditions of deposition and annealing on a nanohardness of amorphous Si–C–N films

Cite:
Porada, O. K. (2015). Influence of conditions of deposition and annealing on a nanohardness of amorphous Si–C–N films. Nanosystems, nanomaterials, nanotechnologies, 13 (1), 59-74. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000454323 [In Ukrainian].

 

Institute of Information Technologies of VNLU

+38 (044) 525-36-24
libnas@nbuv.gov.ua
Ukraine, 03039, Kyiv, Holosiivskyi Ave, 3, room 209