Temperature and laser annealing of nonstoichiometric SiOx films / Havryliuk, O. O., Semchuk, O. Yu. (2013)
Ukrainian

web address of the page http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000516567
  Surface  Б - 2020  /     Issue (2013, Вып. 5)

Гаврилюк О. О., Семчук О. Ю.
Температурний та лазерний відпал нестехіометричних плівок SiOx

Бібліографічний опис:
Гаврилюк О. О., Семчук О. Ю. Температурний та лазерний відпал нестехіометричних плівок SiOx. Поверхность. 2013. Вып. 5. С. 69-82. URL: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000516567

English  Surface   /     Issue (2013, 5)

Havryliuk O. O., Semchuk O. Yu.
Temperature and laser annealing of nonstoichiometric SiOx films

Cite:
Havryliuk, O. O., Semchuk, O. Yu. (2013). Temperature and laser annealing of nonstoichiometric SiOx films. Surface, 5, 69-82. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000516567 [In Ukrainian].

 

Institute of Information Technologies of VNLU

+38 (044) 525-36-24
libnas@nbuv.gov.ua
Ukraine, 03039, Kyiv, Holosiivskyi Ave, 3, room 209