Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges / Lisovskij, V., But, Zh.-P., Landri, K., Due, D., Kasan, V. (2004)
web address of the page http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000849749
Physical surface engineering /  Issue (2004, Т. 2, № 4)
Лисовский В., Бут Ж.-П., Ландри K., Дуэ Д., Касань В.
Плазменная очистка технологических камер в высокочастотном емкостном разряде
Бібліографічний опис:
Лисовский В., Бут Ж.-П., Ландри K., Дуэ Д., Касань В. Плазменная очистка технологических камер в высокочастотном емкостном разряде. Фізична інженерія поверхні. 2004. Т. 2, № 4. С. 168-183. URL: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000849749 |  Physical surface engineering / Issue (2004, 2 (4))
Lisovskij V., But Zh.-P., Landri K., Due D., Kasan V.
Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges
Cite:
Lisovskij, V., But, Zh.-P., Landri, K., Due, D., Kasan, V. (2004). Plasma cleaning of technological chambers in rf capacitive discharges. Physical surface engineering, 2 (4), 168-183. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000849749 [In Russian]. | |
|
|
PDF