Влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость в структурах макропористого кремния / Карась Н. И. (2013)
Ukrainian

інтернет-адреса сторінки: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000363131
  Оптоэлектроника и полупроводниковая техника  Б - 2020  /     Випуск (2013, Вып. 48)

Карась Н. И.
Влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость в структурах макропористого кремния

Бібліографічний опис:
Карась Н. И.  Влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость в структурах макропористого кремния. Оптоэлектроника и полупроводниковая техника. 2013. Вып. 48. С. 136-139. URL: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000363131

English  Optoelectronics and Semiconductor Technique   /     Issue (2013, 48)

Karas N. I.
Influence oxide coatings on negative photoconductivity in structures macroporous silicon

Cite:
Karas, N. I. (2013). Influence oxide coatings on negative photoconductivity in structures macroporous silicon. Optoelectronics and Semiconductor Technique, 48, 136-139. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000363131 [In Russian].

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ

+38 (044) 525-36-24
libnas@nbuv.gov.ua
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна