Дисперсионная чувствительность картины рассеяния к дефектам в зависимости от толщины кристаллических изделий нанотехнологий. II. Численный эксперимент / Лизунов В. В., Кочелаб Е. В., Скакунова Е. С., Лень Е. Г., Молодкин В. Б., Олиховский С. И., Толмачёв Н. Г., Шелудченко Б. В., Лизунова С. В., Скапа Л. Н. (2015)
Ukrainian

English   Nanosystems, nanomaterials, nanotechnologies   /     Issue (2015, 13 (2))

Lizunov V. V., Kochelab E. V., Skakunova E. S., Len E. G., Molodkin V. B., Olikhovskij S. I., Tolmachjov N. G., Sheludchenko B. V., Lizunova S. V., Skapa L. N.
The dispersion sensitivity of scattering pattern to defects depending on thickness of crystalline products of nanotechnologies. II. Numerical experiment


Cite:
Lizunov, V. V., Kochelab, E. V., Skakunova, E. S., Len, E. G., Molodkin, V. B., Olikhovskij, S. I., Tolmachjov, N. G., Sheludchenko, B. V., Lizunova, S. V., Skapa, L. N. (2015). The dispersion sensitivity of scattering pattern to defects depending on thickness of crystalline products of nanotechnologies. II. Numerical experiment. Nanosystems, nanomaterials, nanotechnologies, 13 (2), 349-370. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000454339 [In Russian].

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ


+38 (044) 525-36-24
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна