Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B4C target / Onoprienko A. A., Ivashchenko V. I., Timofeeva I. I., Sinelnitchenko А. К., Butenko О. А. (2015)
UkrainianEnglish

інтернет-адреса сторінки: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000694055
  Сверхтвердые материалы      А - 2019  /     Випуск (2015, № 1)

Onoprienko A. A., Ivashchenko V. I., Timofeeva I. I., Sinelnitchenko А. К., Butenko О. А.
Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B4C target

Cite:
Onoprienko, A. A., Ivashchenko, V. I., Timofeeva, I. I., Sinelnitchenko, A. K., Butenko, O. A. (2015). Characterization of Ti–B–C–N films deposited by dc magnetron sputtering of bicomponent Ti/B4C target. Superhard Materials, 1, 21-29. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000694055

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ

+38 (044) 525-36-24
libnas@nbuv.gov.ua
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна