Structural characterization and thickness profile of pulsed laser-deposited KY3F10: Ho3+ thin films / Gemechu N., Abebe T. (2018)
UkrainianEnglish

інтернет-адреса сторінки: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000855125
  Український фізичний журнал      А - 2018  /     Випуск (2018, Т. 63, № 2)

Gemechu N., Abebe T.
Structural characterization and thickness profile of pulsed laser-deposited KY3F10: Ho3+ thin films

Cite:
Gemechu, N., Abebe, T. (2018). Structural characterization and thickness profile of pulsed laser-deposited KY3F10: Ho3+ thin films. Ukrainian Journal of Physics, 63 (2), 182-186. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000855125

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ

+38 (044) 525-36-24
libnas@nbuv.gov.ua
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна