Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO / Бажин А. И., Троцан А. Н., Чертопалов С. В., Стипаненко А. А., Ступак В. А. (2012)
інтернет-адреса сторінки: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000908769
Фізична інженерія поверхні /  Випуск (2012, Т. 10, № 4)
Бажин А. И., Троцан А. Н., Чертопалов С. В., Стипаненко А. А., Ступак В. А.
Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO
Бібліографічний опис:
Бажин А. И., Троцан А. Н., Чертопалов С. В., Стипаненко А. А., Ступак В. А. Влияние режима магнетронного распыления и состава реакционного газа на структуру и свойства пленок ITO. Фізична інженерія поверхні. 2012. Т. 10, № 4. С. 342-349. URL: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000908769 |  Physical surface engineering / Issue (2012, 10 (4))
Bazhin A. I., Trotsan A. N., Chertopalov S. V., Stipanenko A. A., Stupak V. A.
The influence of the magnetron sputtering regime and the composition of the reaction gas on the structure and properties of ITO films
Cite:
Bazhin, A. I., Trotsan, A. N., Chertopalov, S. V., Stipanenko, A. A., Stupak, V. A. (2012). The influence of the magnetron sputtering regime and the composition of the reaction gas on the structure and properties of ITO films. Physical surface engineering, 10 (4), 342-349. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000908769 [In Russian]. | |
|
|
PDF