Фізична інженерія поверхні. 2004, 2 (4) АРХІВ (Всі випуски) 
 | Фізична інженерія поверхні
2004. Вип. 4 |
- Титул.
- Зміст.
- Приходько В. И., Кавчук В. И., Турбин П. В. К кинетической теории частиц поверхности в методе сокращенного описания. - C. 154-164.
- Annaratone B. M., Antonova T., Lisovskiy V. A., Thomas H. M., Morfill G. E. Levitation of particles in O2 plasma. - C. 165-167.
- Лисовский В., Бут Ж.-П., Ландри K., Дуэ Д., Касань В. Плазменная очистка технологических камер в высокочастотном емкостном разряде. - C. 168-183.
- Хороших В. М. I. Эрозия катода и расход массы катодного материала в стационарной дуге низкого давления. - C. 184-199.
- Хороших В. М. II. Капельная фаза эрозии катода стационарной вакуумной дуги. - C. 200-213.
- Береснев В. М. Влияние многокомпонентных и многослойных покрытий на процессы трения и износа. - C. 214-219.
- Loya V. Yu., Lada A. V., Puga P. P., Gritsyna V. T. Investigation of the optical coatings on the DKDP single crystals by X-ray photoelectron spectroscopy. - C. 220-223.
- Шкилько А. А. Экзоэлектронная эмиссия из алюминия после механических и термических воздействий. - C. 224-228.
- Толок В. Т. Физика и Харьков. - C. 229-243.
|
|
