Physical Mechanisms of SiO2 Target Sputtering with Accelerated Ions of C60 / Maleev, M. V., Zubarev, E. N., Pukha, V. E., Drozdov, A. N., Vus, A. S. (2015)
web address of the page http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000551437
Metallophysics and advanced technologies   А - 2019 /  Issue (2015, Т. 37, № 6)
Малеев М. В., Зубарев Е. Н., Пуха В. Е., Дроздов А. Н., Вус А. С.
Физические механизмы распыления мишеней из SiO2 ускоренными ионами фуллерена C60
Бібліографічний опис:
Малеев М. В., Зубарев Е. Н., Пуха В. Е., Дроздов А. Н., Вус А. С. Физические механизмы распыления мишеней из SiO2 ускоренными ионами фуллерена C60. Металлофизика и новейшие технологии. 2015. Т. 37, № 6. С. 775-788. URL: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000551437 |  Metallophysics and advanced technologies / Issue (2015, 37 (6))
Maleev M. V., Zubarev E. N., Pukha V. E., Drozdov A. N., Vus A. S.
Physical Mechanisms of SiO2 Target Sputtering with Accelerated Ions of C60
Cite:
Maleev, M. V., Zubarev, E. N., Pukha, V. E., Drozdov, A. N., Vus, A. S. (2015). Physical Mechanisms of SiO2 Target Sputtering with Accelerated Ions of C60. Metallophysics and advanced technologies, 37 (6), 775-788. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000551437 [In Russian]. | |
|
|
PDF