Физические механизмы распыления мишеней из SiO2 ускоренными ионами фуллерена C60 / Малеев М. В., Зубарев Е. Н., Пуха В. Е., Дроздов А. Н., Вус А. С. (2015)
Ukrainian

English  Metallophysics and advanced technologies   /     Issue (2015, 37 (6))

Maleev M. V., Zubarev E. N., Pukha V. E., Drozdov A. N., Vus A. S.
Physical Mechanisms of SiO2 Target Sputtering with Accelerated Ions of C60


Cite:
Maleev, M. V., Zubarev, E. N., Pukha, V. E., Drozdov, A. N., Vus, A. S. (2015). Physical Mechanisms of SiO2 Target Sputtering with Accelerated Ions of C60. Metallophysics and advanced technologies, 37 (6), 775-788. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000551437 [In Russian].

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ


+38 (044) 525-36-24
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна