Formation of submicron periodic plasmon structures of large area by using the interference lithography method with vacuum photoresists / Danko, V. A., Dmytruk, M. L., Indutnyi, I. Z., Mamykin, S. V., Mynko, V. I., Lytvyn, P. M., Lukaniuk, M. V., Shepeliavyi, P. Ye. (2015)
web address of the page http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001061487
Optoelectronics and Semiconductor Technique Б - 2020 /  Issue (2015, Вып. 50)
Данько В. А., Дмитрук М. Л., Індутний І. З., Мамикін С. В., Минько В. І., Литвин П. М., Луканюк М. В., Шепелявий П. Є.
Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів
Бібліографічний опис:
Данько В. А., Дмитрук М. Л., Індутний І. З., Мамикін С. В., Минько В. І., Литвин П. М., Луканюк М. В., Шепелявий П. Є. Формування субмікронних періодичних плазмонних структур великої площі методом інтерференційної літографії з використанням вакуумних фоторезистів. Оптоэлектроника и полупроводниковая техника. 2015. Вып. 50. С. 109-116. URL: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001061487 |  Optoelectronics and Semiconductor Technique / Issue (2015, 50)
Danko V. A., Dmytruk M. L., Indutnyi I. Z., Mamykin S. V., Mynko V. I., Lytvyn P. M., Lukaniuk M. V., Shepeliavyi P. Ye.
Formation of submicron periodic plasmon structures of large area by using the interference lithography method with vacuum photoresists
Cite:
Danko, V. A., Dmytruk, M. L., Indutnyi, I. Z., Mamykin, S. V., Mynko, V. I., Lytvyn, P. M., Lukaniuk, M. V., Shepeliavyi, P. Ye. (2015). Formation of submicron periodic plasmon structures of large area by using the interference lithography method with vacuum photoresists. Optoelectronics and Semiconductor Technique, 50, 109-116. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001061487 [In Ukrainian]. | |
|
|
PDF