Influence of the isoelectric point of gelatin on its adsorption on nanosilica surface / Voronin, Ye. P., Holovkova, L. P., Nosach, L. V., Los, S. L. (2021)
web address of the page http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001272589
Chemistry, physics and technology of surface  А - 2022 /  Issue (2021, Т. 12, № 3)
Воронін Є. П., Головкова Л. П., Носач Л. В., Лось С. Л.
Вплив ізоелектричної точки желатини на її адсорбцію на поверхні нанокремнезему
Бібліографічний опис:
Воронін Є. П., Головкова Л. П., Носач Л. В., Лось С. Л. Вплив ізоелектричної точки желатини на її адсорбцію на поверхні нанокремнезему. Хімія, фізика та технологія поверхні. 2021. Т. 12, № 3. С. 175-183. URL: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001272589 |  Chemistry, physics and technology of surface / Issue (2021, 12 (3))
Voronin Ye. P., Holovkova L. P., Nosach L. V., Los S. L.
Influence of the isoelectric point of gelatin on its adsorption on nanosilica surface
Cite:
Voronin, Ye. P., Holovkova, L. P., Nosach, L. V., Los, S. L. (2021). Influence of the isoelectric point of gelatin on its adsorption on nanosilica surface. Chemistry, physics and technology of surface, 12 (3), 175-183. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001272589 [In Ukrainian]. | |
|
|
PDF