Low-temperature ion-plasma deposition technology of nanostructured films of aluminum and boron nitrides / Zaiats, M. S., Boiko, V. H., Romaniuk, B. M., Lytvyn, P. M. (2021)
Ukrainian

web address of the page http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001342045
  Optoelectronics and Semiconductor Technique  Б - 2020  /     Issue (2021, Вип. 56)

Заяць М. С., Бойко В. Г., Романюк Б. М., Литвин П. М.
Низькотемпературна іонно-плазмова технологія осадження наноструктурованих плівок нітриду алюмінію та бору

Бібліографічний опис:
Заяць М. С., Бойко В. Г., Романюк Б. М., Литвин П. М. Низькотемпературна іонно-плазмова технологія осадження наноструктурованих плівок нітриду алюмінію та бору. Оптоелектроніка та напівпровідникова техніка. 2021. Вип. 56. С. 97-107. URL: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001342045

English  Optoelectronics and Semiconductor Technique   /     Issue (2021, 56)

Zaiats M. S., Boiko V. H., Romaniuk B. M., Lytvyn P. M.
Low-temperature ion-plasma deposition technology of nanostructured films of aluminum and boron nitrides

Cite:
Zaiats, M. S., Boiko, V. H., Romaniuk, B. M., Lytvyn, P. M. (2021). Low-temperature ion-plasma deposition technology of nanostructured films of aluminum and boron nitrides. Optoelectronics and Semiconductor Technique, 56, 97-107. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001342045 [In Ukrainian].

 

Institute of Information Technologies of VNLU

+38 (044) 525-36-24
libnas@nbuv.gov.ua
Ukraine, 03039, Kyiv, Holosiivskyi Ave, 3, room 209