Химическое травление поверхности кристаллов ZnSe растворами H2O2–HBr–уксусная кислота / Станецкая А. С., Томашик В. Н., Стратийчук И. Б., Томашик З. Ф., Галкин С. Н. (2014)
Ukrainian

English  Optoelectronics and Semiconductor Technique   /     Issue (2014, 49)

Stanetskaja A. S., Tomashik V. N., Stratijchuk I. B., Tomashik Z. F., Galkin S. N.
Chemical etching of ZnSe crystal surfaced by the H2O2–HBr– acetic acid solutions


Cite:
Stanetskaja, A. S., Tomashik, V. N., Stratijchuk, I. B., Tomashik, Z. F., Galkin, S. N. (2014). Chemical etching of ZnSe crystal surfaced by the H2O2–HBr– acetic acid solutions. Optoelectronics and Semiconductor Technique, 49, 53-59. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000363507 [In Russian].

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ


+38 (044) 525-36-24
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна