Дисперсионная чувствительность картины рассеяния к дефектам в зависимости от толщины кристаллических изделий нанотехнологий. I. Теоретическая модель / Лизунов В. В., Кочелаб Е. В., Скакунова Е. С., Лень Е. Г., Молодкин В. Б., Олиховский С. И., Толмачёв Н. Г., Шелудченко Б. В., Лизунова С. В., Скапа Л. Н. (2015)
Ukrainian

English   Nanosystems, nanomaterials, nanotechnologies   /     Issue (2015, 13 (1))

Lizunov V. V., Kochelab E. V., Skakunova E. S., Len E. G., Molodkin V. B., Olikhovskij S. I., Tolmachjov N. G., Sheludchenko B. V., Lizunova S. V., Skapa L. N.
The dispersion sensitivity of scattering pattern to defects depending on thickness of crystalline products of nanotechnologies. I. Theoretical model


Cite:
Lizunov, V. V., Kochelab, E. V., Skakunova, E. S., Len, E. G., Molodkin, V. B., Olikhovskij, S. I., Tolmachjov, N. G., Sheludchenko, B. V., Lizunova, S. V., Skapa, L. N. (2015). The dispersion sensitivity of scattering pattern to defects depending on thickness of crystalline products of nanotechnologies. I. Theoretical model. Nanosystems, nanomaterials, nanotechnologies, 13 (1), 99-115. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000454326 [In Russian].

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ


+38 (044) 525-36-24
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна