Структурно-фазовый состав в наноразмерных пленочных композициях CoSb1,82-5,45 (30 нм)-SiO2 (100 нм)-Si (001) после осаждения и после отжигов / Макогон Ю. Н., Павлова Е. П., Сидоренко С. И., Беддис Г., Даниэль М., Вербицкая Т. И., Шкарбань Р. А., Богданов С. Е. (2010)
Ukrainian

English  Modern Problems in Physical Materials Science   /     Issue (2010, 19)

Makogon Ju. N., Pavlova E. P., Sidorenko S. I., Beddis G., Daniel M., Verbitskaja T. I., Shkarban R. A., Bogdanov S. E.
The structural-phase composition in CoSb1,82-5,45 (30 nm)-SiO2 (100 nm)-Si (001) nanoscaled film compositions after deposition and annealings


Cite:
Makogon, Ju. N., Pavlova, E. P., Sidorenko, S. I., Beddis, G., Daniel, M., Verbitskaja, T. I., Shkarban, R. A., Bogdanov, S. E. (2010). The structural-phase composition in CoSb1,82-5,45 (30 nm)-SiO2 (100 nm)-Si (001) nanoscaled film compositions after deposition and annealings. Modern Problems in Physical Materials Science, 19, 68-75. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000640528 [In Russian].

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ


+38 (044) 525-36-24
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна