Theoretical evaluation of the temperature field distribution in the silicon periodic nanostructures during thermal annealing / Havryliuk O. O., Semchuk О. Yu. (2017)
UkrainianEnglish

інтернет-адреса сторінки: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000687484
  Хімія, фізика та технологія поверхні    А - 2022  /     Випуск (2017, Т. 8, № 1)

Havryliuk O. O., Semchuk О. Yu.
Theoretical evaluation of the temperature field distribution in the silicon periodic nanostructures during thermal annealing

Cite:
Havryliuk, O. O., Semchuk, O. Yu. (2017). Theoretical evaluation of the temperature field distribution in the silicon periodic nanostructures during thermal annealing. Chemistry, physics and technology of surface, 8 (1), 3-9. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000687484

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ

+38 (044) 525-36-24
libnas@nbuv.gov.ua
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна