Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition / Rahmati A., Khanzadeh M. (2012)
UkrainianEnglish

інтернет-адреса сторінки: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000724619
  Український фізичний журнал      А - 2018  /     Випуск (2012, Т. 57, № 6)

Rahmati A., Khanzadeh M.
Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition

Cite:
Rahmati, A., Khanzadeh, M. (2012). Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: simulation of chemical composition. Ukrainian Journal of Physics, 57 (6), 643-649. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000724619

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ

+38 (044) 525-36-24
libnas@nbuv.gov.ua
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна