Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealing / Gavrylyuk O. O., Semchuk O. Yu., Steblova O. V., Evtukh A. A., Fedorenko L. L. (2014)
UkrainianEnglish

інтернет-адреса сторінки: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000726343
  Український фізичний журнал      А - 2018  /     Випуск (2014, Т. 59, № 7)

Gavrylyuk O. O., Semchuk O. Yu., Steblova O. V., Evtukh A. A., Fedorenko L. L.
Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealing

Cite:
Gavrylyuk, O. O., Semchuk, O. Yu., Steblova, O. V., Evtukh, A. A., Fedorenko, L. L. (2014). Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealing. Ukrainian Journal of Physics, 59 (7), 712-718. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000726343

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ

+38 (044) 525-36-24
libnas@nbuv.gov.ua
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна