Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™ / Чапон П., Костенко О. К. (2012)
Ukrainian

інтернет-адреса сторінки: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000740633
  Наука та інновації      А - 2018  /     Випуск (2012, Т. 8, № 2)

Чапон П., Костенко О. К.
Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™

Бібліографічний опис:
Чапон П., Костенко О. К. Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™. Наука та інновації. 2012. Т. 8, № 2. С. 34-38. URL: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000740633

English  Science and innovation   /     Issue (2012, 8 (2))

Chapon P., Kostenko O. K.
Characterisation of Element Distribution in Films and Coatings with RF GDOES and TOFMS™ Methods

Cite:
Chapon, P., Kostenko, O. K. (2012). Characterisation of Element Distribution in Films and Coatings with RF GDOES and TOFMS™ Methods. Science and innovation, 8 (2), 34-38. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000740633 [In Russian].

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ

+38 (044) 525-36-24
libnas@nbuv.gov.ua
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна