Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы / Шулаев В. М., Андреев А. А., Столбовой В. А., Прибытков Г. А., Гурских А. В., Коростелева Е. Н., Коржова В. В. (2008)
інтернет-адреса сторінки: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000867771
Фізична інженерія поверхні /  Випуск (2008, Т. 6, № 1-2)
Шулаев В. М., Андреев А. А., Столбовой В. А., Прибытков Г. А., Гурских А. В., Коростелева Е. Н., Коржова В. В.
Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы
Бібліографічний опис:
Шулаев В. М., Андреев А. А., Столбовой В. А., Прибытков Г. А., Гурских А. В., Коростелева Е. Н., Коржова В. В. Вакуумно-дуговое осаждение наноструктурных Ti-Si-N покрытий из многокомпонентной плазмы. Фізична інженерія поверхні. 2008. Т. 6, № 1-2. С. 105-113. URL: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000867771 |  Physical surface engineering / Issue (2008, 6 (1-2))
Shulaev V. M., Andreev A. A., Stolbovoj V. A., Pribytkov G. A., Gurskikh A. V., Korosteleva E. N., Korzhova V. V.
Vacuum-arc deposition of nanostructure Ti-Si-N coatings from multi-component plasma
Cite:
Shulaev, V. M., Andreev, A. A., Stolbovoj, V. A., Pribytkov, G. A., Gurskikh, A. V., Korosteleva, E. N., Korzhova, V. V. (2008). Vacuum-arc deposition of nanostructure Ti-Si-N coatings from multi-component plasma. Physical surface engineering, 6 (1-2), 105-113. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000867771 [In Russian]. | |
|
|
PDF