Особенности применения рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии для определения толщины ультратонких пленок / Стервоедов А. Н., Береснев В. М., Сергеева Н. В. (2010)
Ukrainian

інтернет-адреса сторінки: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000877899
  Фізична інженерія поверхні   /     Випуск (2010, Т. 8, № 1)

Стервоедов А. Н., Береснев В. М., Сергеева Н. В.
Особенности применения рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии для определения толщины ультратонких пленок

Бібліографічний опис:
Стервоедов А. Н., Береснев В. М., Сергеева Н. В. Особенности применения рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии для определения толщины ультратонких пленок. Фізична інженерія поверхні. 2010. Т. 8, № 1. С. 88-92. URL: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000877899

English  Physical surface engineering   /     Issue (2010, 8 (1))

Stervoedov A. N., Beresnev V. M., Sergeeva N. V.
Features of X-ray photoelectron spectroscopy for determining the thickness of ultrathin films

Cite:
Stervoedov, A. N., Beresnev, V. M., Sergeeva, N. V. (2010). Features of X-ray photoelectron spectroscopy for determining the thickness of ultrathin films. Physical surface engineering, 8 (1), 88-92. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000877899 [In Russian].

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ

+38 (044) 525-36-24
libnas@nbuv.gov.ua
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна