Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target / Onoprienko A. A., Ivashchenko V. I., Kozak A. O., Sinelnichenko A. K., Tomila T. V. (2019)
UkrainianEnglish

інтернет-адреса сторінки: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001294418
  Надтверді матеріали      А - 2019  /     Випуск (2019, № 2)

Onoprienko A. A., Ivashchenko V. I., Kozak A. O., Sinelnichenko A. K., Tomila T. V.
Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target

Cite:
Onoprienko, A. A., Ivashchenko, V. I., Kozak, A. O., Sinelnichenko, A. K., Tomila, T. V. (2019). Deposition and characterization of thin Si–B–C–N films by dc reactive magnetron sputtering of composed Si/B4C target. Superhard Materials, 2, 29-38. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0001294418

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ

+38 (044) 525-36-24
libnas@nbuv.gov.ua
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна