Фізична інженерія поверхні. 2010, 8 (1) АРХІВ (Всі випуски) 
 | Фізична інженерія поверхні
2010. Вип. 1 |
- Титул.
- Зміст.
- Выровец И. И., Грицына В. И., Дудник С. Ф., Опалев О. А., Решетняк Е. Н., Стрельницкий В. Е. Нанокристаллические алмазные CVD-пленки: структура, свойства и перспективы применения. - C. 4-19.
- Погребняк А. Д., Дробышевская А. А., Ильяшенко М. В., Кирик Г. В., Комаров Ф. Ф., Береснев В. М., Махмудов Н. А., Рузимов Ш. М., Шипиленко А. П., Тулеушев Ю. Ж. Триботехнические, физико-механические свойства и термическая стабильность нано- и микрокомпозитных покрытий на основе Ti-Al-N. - C. 20-27.
- Андреев А. А., Соболь О. В., Горбань В. Ф., Столбовой В. А., Мамон В. В. Исследование фазового состава, структуры и свойств многослойных вакуумно-дуговых нанокристаллических покрытий Ti-Mo-N. - C. 28-35.
- Багмут А. Г., Багмут И. А., Жучков В. А., Николайчук Г. П., Красников А. Н. Нанодисперсные пленки, осажденные импульсным лазерным распылением комбинированных мишеней Ni-Au. - C. 36-42.
- Войтович С. А., Григорчак І. І., Матвіїв М. В. Ієрархічна дублетно-матрична структура C для Li+ та Mg++ - інтеркаляційного струмоутворення. - C. 43-52.
- Гулямов Г., Шарибаев Н. Ю. Температурная зависимость плотности поверхностных состояний, определенная с помощью нестационарной емкостной спектроскопии. - C. 53-58.
- Капустяник В. Б., Турко Б. І., Лубочкова Г. О., Серкіз Р. Я., Вознюк Д. Л., Лень Н. В., Васьків А. П. Вивчення механізмів отримання наноструктур оксиду цинку з парової фази. - C. 59-63.
- Лунёв В. М., Немашкало О. В. Адгезионные характеристики покрытий и методы их измерения. - C. 64-71.
- Абдурахманов Б. М., Олимов Л. О., Абдуразаков Ф. Микроструктура межзеренных границ в поликристаллическом кремнии и ее влияние на перенос носителей заряда. - C. 72-76.
- Павлов А. М. Влияние процессов кластеризации в газах на скорость звука и его поглощение. - C. 77-80.
- Сычикова Я. А., Кидалов В. В., Сукач Г. А. Формирование регулярной пористой структуры р-InP. - C. 81-87.
- Стервоедов А. Н., Береснев В. М., Сергеева Н. В. Особенности применения рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии для определения толщины ультратонких пленок. - C. 88-92.
- Правила оформления рукописей. - C. 93-95.
|
|
