Дослідження систем нанокластерів Si та Ge на поверхні SiOx/Si, одержаних методом молекулярно-променевої епітаксії / Козирев Ю. М., Картель М. Т., Рубежанська М. Ю., Скляр В. К., Дмитрук Н. В., Тайхерт К., Хофер К. (2010)
Ukrainian

English  Reports of the National Academy of Sciences of Ukraine    /     Issue (2010, 1)

translit Transliteration


Kozyrev Yu. M., Kartel M. T., Rubezhanska M. Yu., Skliar V. K., Dmytruk N. V., Taikhert K., Khofer K.
Doslidzhennia system nanoklasteriv Si ta Ge na poverkhni SiOx/Si, oderzhanykh metodom molekuliarno-promenevoi epitaksii


Cite:
Kozyrev, Yu. M., Kartel, M. T., Rubezhanska, M. Yu., Skliar, V. K., Dmytruk, N. V., Taikhert, K., Khofer, K. (2010). Doslidzhennia system nanoklasteriv Si ta Ge na poverkhni SiOx/Si, oderzhanykh metodom molekuliarno-promenevoi epitaksii. Reports of the National Academy of Sciences of Ukraine , 1, 71-76 http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000113146 [In Ukrainian].

 

Institute of Information Technologies of VNLU


+38 (044) 525-36-24
Ukraine, 03039, Kyiv, Holosiivskyi Ave, 3, room 209