Influence of high temperature annealing on the structure and the intrinsic absorption edge of thin-film silicon doped with tin / Rudenko, R. M., Voitovych, V. V., Krasko, M. M., Kolosiuk, A. H., Kraichynskyi, A. M., Yukhymchuk, V. O., Makara, V. A. (2013)
web address of the page http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000725577
Ukrainian Journal of Physics   А - 2018 /  Issue (2013, Т. 58, № 8)
Руденко Р. М., Войтович В. В., Красько М. М., Колосюк А. Г., Крайчинський А. М., Юхимчук В. О., Макара В. А.
Вплив високотемпературного відпалу на структуру та край власного поглинання тонкоплівкового кремнію, легованого оловом
Бібліографічний опис:
Руденко Р. М., Войтович В. В., Красько М. М., Колосюк А. Г., Крайчинський А. М., Юхимчук В. О., Макара В. А. Вплив високотемпературного відпалу на структуру та край власного поглинання тонкоплівкового кремнію, легованого оловом. Український фізичний журнал. 2013. Т. 58, № 8. С. 770-774. URL: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000725577 |  Ukrainian Journal of Physics / Issue (2013, 58 (8))
Rudenko R. M., Voitovych V. V., Krasko M. M., Kolosiuk A. H., Kraichynskyi A. M., Yukhymchuk V. O., Makara V. A.
Influence of high temperature annealing on the structure and the intrinsic absorption edge of thin-film silicon doped with tin
Cite:
Rudenko, R. M., Voitovych, V. V., Krasko, M. M., Kolosiuk, A. H., Kraichynskyi, A. M., Yukhymchuk, V. O., Makara, V. A. (2013). Influence of high temperature annealing on the structure and the intrinsic absorption edge of thin-film silicon doped with tin. Ukrainian Journal of Physics, 58 (8), 770-774. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000725577 [In Ukrainian]. | |
|
|
PDF