Вплив високотемпературного відпалу на структуру та край власного поглинання тонкоплівкового кремнію, легованого оловом / Руденко Р. М., Войтович В. В., Красько М. М., Колосюк А. Г., Крайчинський А. М., Юхимчук В. О., Макара В. А. (2013)
інтернет-адреса сторінки: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000725577
Український фізичний журнал   А - 2018 /  Випуск (2013, Т. 58, № 8)
Руденко Р. М., Войтович В. В., Красько М. М., Колосюк А. Г., Крайчинський А. М., Юхимчук В. О., Макара В. А.
Вплив високотемпературного відпалу на структуру та край власного поглинання тонкоплівкового кремнію, легованого оловом
Бібліографічний опис:
Руденко Р. М., Войтович В. В., Красько М. М., Колосюк А. Г., Крайчинський А. М., Юхимчук В. О., Макара В. А. Вплив високотемпературного відпалу на структуру та край власного поглинання тонкоплівкового кремнію, легованого оловом. Український фізичний журнал. 2013. Т. 58, № 8. С. 770-774. URL: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000725577 |  Ukrainian Journal of Physics / Issue (2013, 58 (8))
Rudenko R. M., Voitovych V. V., Krasko M. M., Kolosiuk A. H., Kraichynskyi A. M., Yukhymchuk V. O., Makara V. A.
Influence of high temperature annealing on the structure and the intrinsic absorption edge of thin-film silicon doped with tin
Cite:
Rudenko, R. M., Voitovych, V. V., Krasko, M. M., Kolosiuk, A. H., Kraichynskyi, A. M., Yukhymchuk, V. O., Makara, V. A. (2013). Influence of high temperature annealing on the structure and the intrinsic absorption edge of thin-film silicon doped with tin. Ukrainian Journal of Physics, 58 (8), 770-774. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000725577 [In Ukrainian]. | |
|
|
PDF