Research and development of technological systems based on high-frequency induction discharge for reactive ion-plasma etching of micro- and nanostructures / Dudin, S. V. (2009)
Ukrainian

web address of the page http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000872969
  Physical surface engineering   /     Issue (2009, Т. 7, № 3)

Дудин С. В.
Исследования и разработка технологических систем на базе ВЧ индукционного разряда для реактивного ионно-плазменного травления микро- и наноструктур

Бібліографічний опис:
Дудин С. В.  Исследования и разработка технологических систем на базе ВЧ индукционного разряда для реактивного ионно-плазменного травления микро- и наноструктур. Фізична інженерія поверхні. 2009. Т. 7, № 3. С. 171-194. URL: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000872969

English  Physical surface engineering   /     Issue (2009, 7 (3))

Dudin S. V.
Research and development of technological systems based on high-frequency induction discharge for reactive ion-plasma etching of micro- and nanostructures

Cite:
Dudin, S. V. (2009). Research and development of technological systems based on high-frequency induction discharge for reactive ion-plasma etching of micro- and nanostructures. Physical surface engineering, 7 (3), 171-194. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000872969 [In Russian].

 

Institute of Information Technologies of VNLU

+38 (044) 525-36-24
libnas@nbuv.gov.ua
Ukraine, 03039, Kyiv, Holosiivskyi Ave, 3, room 209