Исследования и разработка технологических систем на базе ВЧ индукционного разряда для реактивного ионно-плазменного травления микро- и наноструктур / Дудин С. В. (2009)
Ukrainian

інтернет-адреса сторінки: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000872969
  Фізична інженерія поверхні   /     Випуск (2009, Т. 7, № 3)

Дудин С. В.
Исследования и разработка технологических систем на базе ВЧ индукционного разряда для реактивного ионно-плазменного травления микро- и наноструктур

Бібліографічний опис:
Дудин С. В.  Исследования и разработка технологических систем на базе ВЧ индукционного разряда для реактивного ионно-плазменного травления микро- и наноструктур. Фізична інженерія поверхні. 2009. Т. 7, № 3. С. 171-194. URL: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000872969

English  Physical surface engineering   /     Issue (2009, 7 (3))

Dudin S. V.
Research and development of technological systems based on high-frequency induction discharge for reactive ion-plasma etching of micro- and nanostructures

Cite:
Dudin, S. V. (2009). Research and development of technological systems based on high-frequency induction discharge for reactive ion-plasma etching of micro- and nanostructures. Physical surface engineering, 7 (3), 171-194. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000872969 [In Russian].

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ

+38 (044) 525-36-24
libnas@nbuv.gov.ua
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна