Ab initio розрахунок магнітної взаємодії крайової дислокації та домішки кисню в кремнії / Плющай І. В., Плющай О. І., Макара В. А. (2014)
Ukrainian

English  Metallophysics and advanced technologies   /     Issue (2014, 36 (5))

Pliushchai I. V., Pliushchai O. I., Makara V. A.
Ab Initio Calculation of Magnetic Interaction Between Edge Dislocation and Oxygen Impurity in Silicon


Cite:
Pliushchai, I. V., Pliushchai, O. I., Makara, V. A. (2014). Ab Initio Calculation of Magnetic Interaction Between Edge Dislocation and Oxygen Impurity in Silicon. Metallophysics and advanced technologies, 36 (5), 589-596. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000478693 [In Ukrainian].

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ


+38 (044) 525-36-24
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна