Вплив тиску аргону в камері осадження на властивості легованих алюмінієм плівок ZnO, вирощених методом пошарового осадження при магнетронному розпиленні / Попович В. І., Євтушенко А. І., Литвин О. С., Романюк В. Р., Ткач В. М., Батурин В. А., Карпенко О. Є., Дранчук М. В., Клочков Л. О., Душейко М. Г., Карпина В. А., Лашкарьов Г. В. (2016)
Ukrainian

English  Ukrainian Journal of Physics   /     Issue (2016, 61 (4))

Popovych V. I., Yevtushenko A. I., Lytvyn O. S., Romaniuk V. R., Tkach V. M., Baturyn V. A., Karpenko O. Ye., Dranchuk M. V., Klochkov L. O., Dusheiko M. H., Karpyna V. A., Lashkarov H. V.
Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering


Cite:
Popovych, V. I., Yevtushenko, A. I., Lytvyn, O. S., Romaniuk, V. R., Tkach, V. M., Baturyn, V. A., Karpenko, O. Ye., Dranchuk, M. V., Klochkov, L. O., Dusheiko, M. H., Karpyna, V. A., Lashkarov, H. V. (2016). Effect of argon deposition pressure on the properties of aluminum-doped ZnO films deposited layer-by-layer using magnetron sputtering. Ukrainian Journal of Physics, 61 (4), 334-339. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000732262 [In Ukrainian].

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ


+38 (044) 525-36-24
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна