Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда / Дудин С. В. (2006)
Ukrainian

English  Physical surface engineering   /     Issue (2006, 4 (3-4))

Dudin S. V.
Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP


Cite:
Dudin, S. V. (2006). Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP. Physical surface engineering, 4 (3-4), 169-173. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000855346 [In Russian].

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ


+38 (044) 525-36-24
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна