Plasma potential influence on ion energy istribution function in icp source / Vozniy O. V., Yeom G. Y., Kropotov A. Yu. (2007)
UkrainianEnglish

інтернет-адреса сторінки: http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000858403
  Фізична інженерія поверхні   /     Випуск (2007, Т. 5, № 1-2)

Vozniy O. V., Yeom G. Y., Kropotov A. Yu.
Plasma potential influence on ion energy istribution function in icp source

Cite:
Vozniy, O. V., Yeom, G. Y., Kropotov, A. Yu. (2007). Plasma potential influence on ion energy istribution function in icp source. Physical surface engineering, 5 (1-2), 28-33. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000858403

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ

+38 (044) 525-36-24
libnas@nbuv.gov.ua
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна