Вплив дефектів дивакансія-кисень на рекомбінаційні властивості n-Si після опромінення та наступного відпалу / Красько М. М., Колосюк А. Г., Войтович В. В., Поварчук В. Ю., Рогуцький І. С. (2018)
Ukrainian

English  Ukrainian Journal of Physics   /     Issue (2018, 63 (12))

Krasko M. M., Kolosiuk A. H., Voitovych V. V., Povarchuk V. Yu., Rohutskyi I. S.
Influence of divacancy-oxygen defects on recombination properties of n-Si subjected to irradiation and subsequent annealing


Cite:
Krasko, M. M., Kolosiuk, A. H., Voitovych, V. V., Povarchuk, V. Yu., Rohutskyi, I. S. (2018). Influence of divacancy-oxygen defects on recombination properties of n-Si subjected to irradiation and subsequent annealing. Ukrainian Journal of Physics, 63 (12), 1095-1104. http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000940845 [In Ukrainian].

 

Інститут інформаційних технологій НБУВ


+38 (044) 525-36-24
Голосіївський просп., 3, к. 209
м. Київ, 03039, Україна